Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment

Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Автор книги: id книги: 887174     Оценка: 0.0     Голосов: 0     Отзывы, комментарии: 0 17139,3 руб.     (167,09$) Купить и читать книгу Купить бумажную книгу Электронная книга Жанр: Техническая литература Правообладатель и/или издательство: John Wiley & Sons Limited Дата добавления в каталог КнигаЛит: ISBN: 9781118601112 Возрастное ограничение: 0+

Реклама. ООО «ЛитРес», ИНН: 7719571260.

Описание книги

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Добавление нового отзыва

Комментарий Поле, отмеченное звёздочкой  — обязательно к заполнению

Отзывы и комментарии читателей

Нет рецензий. Будьте первым, кто напишет рецензию на книгу Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Подняться наверх