Atomic Layer Deposition. Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Atomic Layer Deposition. Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Автор книги: id книги: 1062992     Оценка: 0.0     Голосов: 0     Отзывы, комментарии: 0 22171 руб.     (239,45$) Купить и читать книгу Купить бумажную книгу Электронная книга Жанр: Зарубежная образовательная литература Правообладатель и/или издательство: John Wiley & Sons Limited Дата добавления в каталог КнигаЛит: ISBN: 9781118747421 Возрастное ограничение: 0+

Реклама. ООО «ЛитРес», ИНН: 7719571260.

Описание книги

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Добавление нового отзыва

Комментарий Поле, отмеченное звёздочкой  — обязательно к заполнению

Отзывы и комментарии читателей

Нет рецензий. Будьте первым, кто напишет рецензию на книгу Atomic Layer Deposition. Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Подняться наверх