Описание книги
В учебном пособии рассмотрены основные области применения импульсного излучения в технологии производства полупроводниковых приборов, физика взаимодействия высокоинтенсивного излучения с твердым телом, типы источников импульсного излучения, методики расчета распределения температуры при проведении импульсного отжига полупроводниковых материалов и приборных структур. Проанализированы основные закономерности изменения характеристик полупроводниковых материалов, многослойных структур, гетероструктур, наноструктур, готовых приборов при использовании операций импульсного отжига в различных режимах. Предназначено для студентов, обучающихся в бакалавриате по направлению подготовки 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника».